近年來，台積電、三星、英特爾在先進製程大戰打得火熱，為搶下晶圓代工市場，對極紫外光（EUV）設備需求大增。外媒報導，獨家供應半導體微影設備大廠艾司摩爾（ASML）新一代 High-NA EUV 設備飆出新天價，由於機台比前一代還要大30%，至少需要三架波音747分批運送，預估一台要價約4億美元（約台幣119億元）；有專家形容，買下High-NA EUV 設備就像擁有一把好槍，能搶得市場先機。

路透報導，ASML表示，去年第四季High-NA EUV設備訂單已有5台，預計於2024年交付。先前業內人士推估，下單一台動輒上百億台幣的最新EUV 肯定是大咖客戶，包括台積電、英特爾和三星。

ASML新一代 High-NA EUV 設備，因為精密度更高、設計零件更多，比前一代體積大30%左右，重量超過200公噸的雙層巴士大小，至少需要三架波音747分批運送，估每台價格4億美元。將用於生產下一代晶片，晶片終端領域可涵蓋手機、筆電、汽車、AI等。

微影製程技術是決定晶片上電路有多小的關鍵決定因素，High-NA有望減少66%尺寸大小。在晶片製造中越小越好，因為在同一空間中封裝的晶體管越多，晶片的速度就越快、能效越高。

產業調查機構TechInsights專家Dan Hutcheson認為，High-NA EUV機台可為一些晶片製造商帶來顯著優勢，有點像誰擁有最好的槍，誰就能搶得先機。一旦錯失這設備，將從此失去競爭力。

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台積電今年拉高資本支出至400～440億美元，相關支出多數用於先進製程，除了加速建廠2奈米及更先進製程晶圓廠，也極積投入相關半導體設備預訂採購。

（中時新聞網 吳美觀）

來源鏈接：https://ctee.com.tw/news/tech/646913.html

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